germany designer如何设置线宽 28nm光刻机与7nm差距在哪？
28nm光刻机与7nm差距在哪？
这个概念就被混淆不清了!即便28纳米不错，7纳米依我看，指的大都光刻机的制程工艺。而光刻机背身只分成三类紫外光刻机(UV)，深紫外光刻机(DUV)，极紫外光刻机(EUV)。其中28纳米的制程工艺用DUV也行，用EUV也这个可以。7纳米制程工艺使用DUV确实是是可以的，只是太麻烦了，用EUV比较简单省事儿。
而DUV光刻机和EUV光刻机的差距要注意在:“光源，物镜”，这三者基本确定了一台光刻机制程工艺的高低。要是顿了顿具体详细的工艺上，那是28纳米制程工艺能制造的芯片与7纳米制程工艺能制造的芯片性能差太大了，基本是28纳米制程工艺是9年前的了，如果让用回9年前的手机，你还愿意么？
机台部件差距先来看光源。DUV光刻机需要的Arf光源，其波长普片在193纳米。而光刻机的分辨率除了正比于波长之外，还主要注意受限制于瑞利衍射极限。Arf光源的极限基本是就是7nm工艺了，在提升到分辨率的话，那代价就太大了，完全没有太不划算。而EUV光刻机常规的是EUV光源，其波长为13.5纳米，这么多短的波长，就很容易实现分辨率的提升，因此在用EUV光刻机的话制程工艺至少7纳米，5纳米，3纳米是很容易能够做到的。别外，另外结束制作7纳米的芯片，EUV光刻机的效率要比DUV高的多。
再来看低倍物镜组。ASML制造出的EUV光刻机在用的是蔡司公司能提供的物镜，其数值孔径(NA)值为0.33越大。看公式“光刻机分辨率k1*λ/NA”。也就是说NA值越大意思是分辨率越高，光源波长越短，分辨率也就越高。导致直接限制于技术，可能导致镜头的NA值又不能无限增大，所以我没有办法你选择缩小光源的波长了。国内NA值或为0.75的光学系统也是从验收了，一直在向NA值为1.35的进发。的确，国产品牌DUV光刻机的光学系统的NA值早比ASML的高了。
由此可知，EUV光刻机和DUV光刻机之间的差距有多大。肯定了，EUV光刻机要的光源和物镜都是是需要极高技术支持的，不能够掌握先去的技术，那是制造不出EUV光刻机的。再者，芯片的制程工艺，不光是由光刻机做出决定的。更多的在于一个厂商的研发工艺，假如，台积电在用DUV光刻机就可以不将芯片的制程拽入7纳米，而三星就不行呀，三星想制造出来出7纳米制程工艺的芯片，就需要要有EUV光刻机。所以说，现在可以使用DUV光刻机也是这个可以实现方法7纳米制程工艺的，不过就看厂商对技术的研发怎么样了。不过台积电上千人的研发团队，用不3年时间，烧了数百亿美金才拿起7纳米制程工艺。因为说，生产芯片既要会舍得投资，还得在等待。
人类仪器的发展史？
仪器仪表发展已有悠久的历史。公元前600年1450年，古埃及就有绿石板影钟。至960年14世纪，用以来表示时间的任何比较可靠的方法是日晷或影钟。公元前600年至公元前2500年525年，也用处不大棕榈叶和铅垂线记录夜间时间和某种特定天体的仪器。当天体是从子午线时，从棕榈叶的开口说中观察到天体越过铅垂线的过程。在江苏仪征发掘出土了东汉中期的小型折叠后铜质民间测影仪器。
962年1400年前，埃及有记录长度短时间的仪器叫水钟，水钟内有刻度，下有小孔，整个水钟用雪花石膏制成瓶状。在古希腊古罗马有当时世界上真正的机械计时仪——水仪。通过水的传递计量时间，记录的是不停缓缓流动的概念而不是什么在不相等的时间，更加不精确计算。北宋时期的苏颂和韩公谦于1088年可以制作了天文计时器——天文仪象台。它区分民间的水车、筒车、桔槔、凸轮和天平秤杆等，是集观测、演示相关和报时为一身。
到了现代，不断X射线、γ射线先后被德国科学家伦琴、法国科学家P.V.维拉德才发现，因其很强大穿透力这一特性，使仪器的功能与概念被尽快拽入更深的领域，如X光检查机、线宽检测仪等仪器，就需要了X射线、γ射线的很强大穿透力研发的先进检测仪器设备。
20世纪初，电子技术的发展使各形电子仪器急速才能产生，如今后教育的普及全球的电子计算机，浮山宗从这一时始崛起的。同样的，伴随着工业化程度的不断提高，各行各业的电子仪器如雨后春笋般地出现，如计量、分析什么、生物、天文、汽车、电力、石油、化工仪器等。
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